Luis Orellana, estudiante de Magíster en Ciencias de la Ingeniería Eléctrica, presentó dos temas de su tesis en el International Symposium on High Voltage Engineering realizado entre el 26 y 30 de agosto en Budapest, Hungría.
La tesis busca aplicar sensores para la medición de transitorios electromagnéticos rápidos en el diagnóstico de la operación de descargas pulsadas de plasma del tipo plasma foco utilizadas para el estudio de radiaciones pulsadas intensas y fusión nuclear. Dicho trabajo significa una cooperación entre el laboratorio de alta tensión de la UTFSM y el laboratorio de plasma y fusión nuclear de la comisión chilena de energía nuclear (CCHEN), siendo esta cooperación dirigida por el Dr. Jorge Ardila (UTFSM) y el Dr. Gonzalo Avaria (CCHEN).
En esta ocasión se presentaron los artículos titulados Introducing An Inductive Loop Sensor As An Alternative To Record The Phenomena Of A Dense Plasma Focus Of 400J y On The Use Of UHF Sensors In The Detection And Characterization Of Pulsed Plasma Discharges.
Ambos trabajos están enfocados en el desafío de medir de forma no invasiva pulsos electromagnéticos, en el orden de 1-10 nanosegundos, que se producen en los compactos dispositivos plasma focos utilizados en la CCHEN. Para el área de alta tensión esto significa la exportación de conocimiento y técnicas de medidas del fenómeno de descargas parciales hacia el área de potencia pulsada.